研究方向
研究簡介
研究方向
   硬質薄膜
   透明導電膜
   其他功能性薄膜
   CIGS太陽能電池
   燃料電池
   鋰電池
   銀合金
   生質碳
研究計畫
透明導電膜 

透明導電氧化物(Transparent Conductive Oxide, 簡稱TCO)薄膜既是金屬氧化物,又是半導體薄膜材料,也屬於光學材料。透明導電薄膜的種類有很多,但氧化物薄膜占主導地位。最早的透明導電氧化物薄膜CdO於1907年由Badeker首次製成,從此開始了透明導電薄膜的研究、開發與利用。透明導電氧化物薄膜一般為多晶膜,主要包括In,Sb,Zn和Cd的氧化物及其複合多元氧化物薄膜材料。SnO2基和In2O3基薄膜開始出現於20世紀50年代,而ZnO基薄膜則興起於20世紀80年代。目前研究較多的是SnO2:F (FTO), In2O3:Sn (ITO)和ZnO:Al (ZAO)。透明導電氧化物薄膜具有禁頻寬、電阻率低、可見光範圍光透射率高和紅外光譜區光反射率高等共同光電特性,廣泛地應用於平面顯示器件、太陽能電池、反射熱鏡、氣體敏感器件、特殊功能視窗塗層及其他光電子、微電子、真空電子器件領域。近年來還出現了由多種氧化物組成的新型多元化合物TCO薄膜以及具有p型導電特性的TCO薄膜,使得TCO薄膜的研究和應用領域大大擴展。

隨著應用領域的不斷擴大,對透明導電薄膜的物理性質和化學性質提出了更高的要求。因此必須不斷改進TCO薄膜的製備方法,而且努力的方向應體現完善薄膜性能、降低反應溫度、提高控制精度、降低制備成本和適應集成化等趨勢。對不同的薄膜材料、不同的襯底和不同的應用目的,研究有針對性的製備方法,發展低溫製備技術、柔性襯底製備方法以及低成本製造技術,使製造技術的適應性更好,薄膜的應用領域更廣,器件的製造成本更低。

本實驗室旨在針對平面顯示和太陽能電池等應用領域,繼續提高薄膜的可見光透過率和降低薄膜的電阻率。除了製備技術和參數的改進,如何提高TCO薄膜的遷移率是降低薄膜的電阻率同時保證其較高光學性能的努力方向之一。

P-type透明導電膜

TCO材料的應用上較少有透明元件發展的相關報導,其主要原因在於P型材料相當少且其電阻率也較高,使得這些材料無法製作為良好的 PN 接面,因此製作良好的 P 型TCO薄膜是相當重要的發展趨勢。實驗室在適當製程控制下,成功獲得CuAlO2單相結構,其具有優良的P型透明特性。

 

多元透明導電氮氧化物薄膜

本研究報告重點在透明導電多元合金氧化物薄膜的開發,為發展光電半導體材料之創新方法,基於高熵合金理論與特性—材料可多元組合、在熱力學上亂度或熵值的增加有助於系統自由能的降低及安定性、與氧原子形成簡單結構之氧化物,作為開發多元合金光電半導體氧化物之基礎理論。

研究顯示,氧含量為58 at.% (TiVCrZrTa)xO1-x薄膜的非直接能隙為2.38 eV,具有約70 %的光學穿透率,藉由氮原子加入在(TiVCrZrTa)xO1-x薄膜中,可減少氧化態或增加價電子數,因此可控制氧化物薄膜光學與電學性質,所形成的(TiVCrZrTa)xNyO1-x-yn型光電半導體。